基于3G手机的RF屏蔽设计

全部辐射测量都是在丹麦哥本哈根的Delta Technologies进行的。被测设备放在不吸收和不反射材料的表面(图6)。在该测试中，RFMD的另一款TxM产品(RF3282)用作测试载体。

图7显示的是发自RF3282 TxM的辐射功率。红色图表示没有屏蔽的TxM，蓝色图表示的是采用MicroShield屏蔽的TxM。注意：为更清楚地显示两种被测器件的差异，蓝色图被稍微右移。如图所示，MicroShield集成RF屏蔽显著降低了辐射功率。在10.5GHz仅有一个示警。它昭示着这两种情况：或是存在另一种模式(腔模式)，或是结果也许与流经屏蔽表面的地电流相关。但无论如何，对辐射功率的平均衰减可达15dB或更高。

我们讨论了MicroShield屏蔽技术在抑制EMI和RFI方面的优势，该技术提升了满足规约要求的能力。另外，MicroShield集成RF屏蔽还同时把外部EMI/RFI干扰的影响降至最低，从而弱化了手机设计中存在的性能漂移问题。

因手机设计师和制造商越来越依赖手机平台来满足其时间和成本要求，所以器件对PCB布局的敏感性是个关键因素。过去，当这些平台被用于不同手机设计时，性能会被打折，具体表现在EMI和RFI辐射通常成为性能不一致的主要诱因。借助支持MicroShield的RF器件，手机制造商有能力像安放对EMI/RFI不敏感的任何器件一样，安放高度复杂的RF模块，从而提供了一种真正、可包容PCB改变和布局变化的“即插即用”方案。通过规避对PCB布局的敏感性，MicroShield避免了重新调节电路的风险，因此，加快了上市进度并降低了RF实现的成本。