图2、GaN MESFETs 剖面结构图
图3、0.7m 擅长器件的电流增益|h21| 和单边增益U
从目前来看,相对于其他GaN 基器件,GaN MESFETs 生长和制造工艺相对较为简单。但对于MESFET 而言,获得较高的跨导需要一个高掺杂的沟道,而肖特基结的形成通常要求沟道轻掺杂。折中的结果最终导致沟道较厚、沟道杂质浓度较低,因此与GaAs MESFETs 所获得的跨导值(一般为200mS/ mm)相比,GaNMESFETs 的跨导值(最大为23mS/ mm)相对较低。此外,体GaN 沟道中的低电子迁移率往往导致高的级联电阻,使得GaN MESFETs 的射频性能受到限制[6],不能完全发挥它的优势。
2.2、HFETs
自1992 年Khan 等人首次对Alx Ga1- xN/ GaN 异质结界面的电子迁移率进行了实验研究,指出AlxGa1- xN/GaN 异质结处的电子迁移率可以达到极高的值之后,众多的研究[7,8] 先后都表明Alx Ga1- xN/GaN 结构界面处可以产生二维电子气(2DEG),具有很高的电子迁移率,电子密度也相应比较高。此外,AlxGa1- xN/ GaN 界面上的肖特基势垒也比GaN 形成的肖特基势垒要高,这都为有效地产生微波功率提供了重要的材料基础。
目前,GaN HFETs,MODFETs 以及MISFETs 等新型微波功率器件都是以Alx Ga1- x N/ GaN 异质材料为基础,利用异质界面上形成的2DEG[8] 的优良传输特性来满足微波大功率要求的。图4 即是用于HFET 的AlGaN/ GaN 异质结构,包括一个厚的GaN 层,一个轻掺杂的GaN 层以及淀积在轻掺杂GaN 层上的AlGaN 层。相对于直接利用GaN 制造的器件来说,在图4 结构基础上制造的器件具有更大的潜力,这主要是Alx Ga1- xN/ GaN 异质结界面上可形成二维电子气,使得迁移率得到进一步增强。同时还可以采用在介质层上插入一个未掺杂的AlGaN 空间层和调制掺杂的方法来提高2DEG 结构中的传输特性,使得GaN 基HFET,MODFET的器件性能明显优于GaAs 基结构。
图4、AlGaN/ GaN 结构图
2.2.1、AlGaN/ GaN HFETs
AlGaN/ GaN HFETs 异质结场效应晶体管,是直接以AlGaN/ GaN 异质结材料为基础而制造的GaN 基器件。众多的研究[6~ 11] 表明了其在微波大功率应用方面具有巨大优势:1994 年,Khan 等人[9] 在大约1,01X105 Pa的压力下以三乙基铝、三乙基镓和氨气(NH3)作为氮源,在低压MOCVD 反应器中生长出了AlGaN/ GaN 异质结,并采用Ti/ Au 和Ti/W 作为源-漏和栅接触,制造出了AlGaN/GaN HFET,其结构图参见图5。当栅长为0.25 μm时,其截止频率f T 和最大振荡频率f max 分别为11GHz和35GHz,与GaN MESFET 相比,性能有了很大的提高。1998 年,Thibeault 等人制造出了截止频率f T 为4GHz,输出功率为1.4W的GaN HFET;Siram等人则制造出了f T 为10 GHz,输出功率为0.85W的GaN HFET;Sullivom 等人[10] 制造出的HFET 的f T 为10 GHz,输出功率为3.3W。需要说明的是,这些GaN HFET 都是在蓝宝石衬底上制造的。一方面,由于蓝宝石的热导性比较差,容易导致高的结温度并降低大功率晶体管的效率;另一方面,蓝宝石与GaN 的晶格失配比较大,导致在加速生长冷却后存在显著的应力。这两种原因都使得难以在蓝宝石衬底上生长出质量较好的GaN 外延层。因此为了提高微波功率,必须寻找更为合适的材料作为衬底以突破这些限制。SiC 材料相对于蓝宝石而言具有高的热导率,并同GaN 具有较小的晶格失配,因此可以考虑用SiC 材料代替蓝宝石作为衬底。1998 年,Shepperd 等人成功地在SiC 衬底上制成了AlGaN/ GaN HFETs,其截止频率f T 为10GHz,功率密度为6.8W/mm,比蓝宝石HFETs 性能更好。1999 年,Q.Chen 等人[6] 在n 型和p 型SiC 衬底上制成了AlGaN/ GaNHFETs,器件性能非常理想。对于n 型SiC 衬底的器件,他们使用4.5 μm的栅宽,采用He 离子注入的方式进行隔离;对于p 型SiC 衬底的材料,他们使用100μm的栅宽,采用RIE 刻蚀和离子注入两种方法进行隔离。器件中欧姆接触采用Ti/Al 金属结构,栅肖特基接触采用Ni/ Au 双层结构。最终获得的功率密度为6.4W/ mm,在8 V偏压和0.4A/ mm电流密度下的截止频率f T 和最大振荡频率f max 分别为53 GHz和58 GHz。