欧洲启动一项为期三年、总投资3.6亿欧元(约合4.65亿美元)的项目,以促进全耗尽绝缘体上硅(FDSOI)制造工艺在欧洲实现产业化。
该项目名为Places2Be,由在FDSOI工艺领域处于领先地位的意法半导体(ST)公司领导。该项目将在ST位于法国克罗尔市的晶圆厂和格罗方德(GLOBALFOUNDRIES)公司位于德国德累斯顿市的第一生产厂内建立试生产线。
Places2Be是“在欧洲建立2X生产节点先进绝缘体上硅(SOI)互补金属氧化物半导体(CMOS)工艺试生产线”的简写。Places2Be采用超薄体和埋氧氧化层(UTBB)FDSOI技术,该技术可为晶体管提供从低功耗至高速度的调节能力。该项目由欧洲纳电子计划顾问委员会(ENIAC)纳米电子学公私联合工作组(JU)和来自7个国家的19个公司和学术机构联合组成的公共机构提供支撑。
由于欧盟和国家公共机构资金投放方式的复杂性,暂时无法确定4.65亿美元将如何由纳税人提供。从历史上看,参与欧盟项目的公司最多可得到总支出成本50%的资金支持,大学最多可以得到总成本75%的资金支持。
ST公司表示,Places2Be项目是ENIAC目前最大的一笔资金投入,目标是支持28nmFDSOI试生产线的建立,未来实现欧洲先进制造工艺量产。资金将用于欧洲FDSOI设计与制造生态系统建立,以及支持后续14nm和10nm节点的发展。
FDSOI具备低功耗,高性能、可替代体硅CMOS和FinFET技术等优点,普遍认为将取代体硅CMOS技术。ST公司表示,FDSOI速度更快,温度更低,且更容易实现;但从目前来看,主要的芯片制造商如英特尔,台积电和三星公司对此并不认同。ST公司已经在法国克罗尔市开始该技术的研发,第一个FDSOI系统计划将用于消费电子、高性能计算和网络。
该项目包括来自7个国家的19个单位,分别是瑞典ACERO公司、阿迪克森真空产品公司、Axiom集成电路公司、Bruco集成电路公司、法国原子能暨替代能源委员会、海豚集成公司、爱立信公司、eSilicon罗马尼亚公司、ForschungzentrumJuelichGmbh公司、格罗方德公司、格勒诺布尔INP公司、比利时微电子研究中心(IMEC)、离子束服务(IBS)公司、明导图形法国公司、法国Soitec公司、意法爱立信公司、意法半导体公司、鲁汶天主教大学和特文特大学。未来三年计划有500名工程师参与其中。
(工业和信息化部电子科学技术情报研究所张倩)