用微波ECR等离子体溅射法在蓝宝石(0112)晶面上生长ZnO薄膜的研究

物理学报  1999, Vol. 48  Issue (5): 955-960

汪建华1, 袁润章1, 邬钦崇2, 任兆杏2
(1)武汉工业大学材料复合新技术国家重点实验室,武汉 430070; (2)中国科学院等离子体物理研究所,合肥 230031
THE STUDY OF EPITAXIAL GROWTH ZnO THIN FILM ON A (0112) SAPPHIRE SUBSTRATE USING ECR PLASMA SPUTTERING METHOD
WANG JIAN-HUZ1, YUAN RUN-ZHANG1, WU QIN-CHONG2, REN ZHAO-XING2

摘要： 蓝宝石上外延生长ZnO薄膜在表面波和声光器件中有重要的应用．用微波电子回旋共振(ECR)等离子体溅射法在蓝宝石(0112)晶面上外延生长了ZnO薄膜，膜无色透明，并且表面光滑，基片温度为380℃，为探索沉积工艺参数对薄膜结构的影响，用XRD对不同基片温度和沉积速率生长的ZnO薄膜进行了研究．

引用本文:   
汪建华,袁润章,邬钦崇 等 . 用微波ECR等离子体溅射法在蓝宝石(0112)晶面上生长ZnO薄膜的研究. 物理学报, 1999, 48(5): 960. 
Cite this article:   
WANG JIAN-HUZ,YUAN RUN-ZHANG,WU QIN-CHONG et al. THE STUDY OF EPITAXIAL GROWTH ZnO THIN FILM ON A (0112) SAPPHIRE SUBSTRATE USING ECR PLASMA SPUTTERING METHOD. Acta Phys. Sin., 1999, 48(5): 955-960. 

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