ECR-CVD法制备的a-C:F:H薄膜在N2气氛中的热退火研究

物理学报  2002, Vol. 51  Issue (2): 439-443

陆新华1, 辛煜2, 宁兆元2, 程珊华2, 甘肇强2, 黄松2
(1)苏州大学化学系,苏州215006; (2)苏州大学物理系薄膜材料实验室,苏州215006
 
摘要： 改变CHF3CH4源气体流量比,使用微波电子回旋共振化学气相沉积方法(ECRCVD)制备了具有不同C—F键结构的aC:F:H薄膜,着重研究了退火对其结构的影响.结果显示薄膜的厚度及其光学带隙E04随退火温度的上升均呈现了不同程度的下降.借助于红外吸收光谱和所提出的热解模型解释了产生这种关系的结构上的根源.

引用本文:   
辛煜,宁兆元,程珊华 等 . ECR-CVD法制备的a-C:F:H薄膜在N2气氛中的热退火研究. 物理学报, 2002, 51(2): 443. 
Cite this article:   
$author.xingMing_EN,$author.xingMing_EN,$author.xingMing_EN et al. . Acta Phys. Sin., 2002, 51(2): 439-443. 

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