物理学交叉学科及有关科学技术领域

物理学报  2002, Vol. 51  Issue (6): 1383-1387

真空退火对氟化非晶碳薄膜结构的影响
黄峰, 程珊华, 宁兆元, 杨慎东, 叶超
苏州大学物理系,苏州215006
 
Huang Feng, Cheng Shan-Hua, Ning Zhao-Yuan, Yang Shen-Dong, Ye Chao

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摘要： 在苯(C6H6)和四氟化碳(CF4)混合气体中,用微波电子回旋共振等离子体化学气相沉积技术(ECRCVD)在不同功率下制备了氟化非晶碳膜(aC:F),为了检测膜的热稳定性对其进行了真空退火处理,测量了退火前后膜厚的变化率,并用傅里叶变换红外吸收光谱(FTIR)研究了其结构的变化.结果表明,膜厚变化率与沉积功率有关;400℃退火后低功率下沉积的膜的结构变化显著,高功率下沉积的膜则呈现了较好的热稳定性.
 
引用本文:   
黄峰,程珊华,宁兆元 等 . 真空退火对氟化非晶碳薄膜结构的影响. 物理学报, 2002, 51(6): 1387. 
Cite this article:   
Huang Feng,Cheng Shan-Hua,Ning Zhao-Yuan et al. . Acta Phys. Sin., 2002, 51(6): 1383-1387. 

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